仪器信息
规格型号 :
DZ450 极限真空度：2*10-5 Pa
设备原值 :
27.9（万元）
产地国别 :
中国
学科领域 :
材料科学,化学
技术指标 :
采用等离子技术，在真空条件下，制备纯度高的金属膜、化合物膜等
主要功能 :
真空电阻加热蒸发，电子枪加热蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积，离子束溅射等
服务信息
服务内容 :
半导体、显示、光伏、工具镀膜、装饰镀膜、功能镀膜等。
收费标准 :
90元/h
用户须知 :
1．基片样品的制作，遮盖金属片的边缘一定要非常光滑整齐，遮盖金属片要紧紧压住基片。
2． 蒸发电流和蒸发时间的掌握，为避免蒸发材料跌落并清除杂质，开始宜缓慢升温，待蒸发材料融化成液滴时再加大电流升温蒸发，直到将材料全部蒸发光，确保薄膜的厚度。
3． 称重法测薄膜厚度要求基片足够大，膜足够厚，天平读数精度足够高。
4． 干涉法测薄膜厚度，干涉显微镜的结构与实物对照。
5． 调节光路找到干涉条纹，再调到干涉条纹出现最大弯曲，即可测量。
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罗寒英
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