仪器信息
规格型号 :
*
设备原值 :
168.93（万元）
产地国别 :
德国
学科领域 :
材料科学, 物理学
技术指标 :
曝光波长：UV400,曝光面积：100 mm（4英寸）,分辨率：≤0.8 um,正面套刻精度：≤ ±0.5um,光强均匀度：100mm直径内≤±5％,曝光模式可支持硬接触、软接触、接近和真空4种模式。
主要功能 :
实现微米量级的微结构图形的掩模曝光
服务信息
服务内容 :
实现微米量级掩模版的加工，微结构的曝光复制。
收费标准 :
校内200/个，校外：600/个
用户须知 :
曝光最大面积：100 mm（4英寸）,分辨率：≤0.8 um,结构精度为1um，均匀性≤±5％,支持正胶和负胶。
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杨勇
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