天津市“薄膜电子与通信器件”重点实验室
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电子束曝光系统
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发布时间:2023/4/11
所在地:天津
服务承诺:
客户至上 如实描述
产品详情
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成交记录 (0)
仪器信息
规格型号 :
e_LINE plus
设备原值 :
18(万元)
产地国别 :
学科领域 :
技术指标 :
主要功能 :
主要功能及应用: 1集成电路制造直写领域,电子束曝光面向的主要尺度范围是22nm以下; 2在模板制作领域,电子束曝光的高分辨率与高精度具有极大优势; 3对于新型器件(纳米尺度)尤其是量子器件的原型开发,具有非常大的灵活性; 4在微纳米尺度的基础研究领域,电子束曝光可以直接在衬底表面规则而精确地定义出≤10nm的图形。
服务信息
服务内容 :
收费标准 :
1500.00
用户须知 :
无
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郝银召
235*******36
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