eLINE Plus是一款高性能电子束曝光(EBL)系统,主要用微纳电子器件图形曝光,它能同时应用多种纳米加工技术,使用包括高精度激光干涉样品台、高速高精度图形发生器、图形识别自动套刻等先进的电子束曝光技术,能够满足超高分辨率和大面积图形的微纳加工要求,可用于亚微米图像的电子束直写,可用于4inch以下样品的图形曝光。
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eLINE Plus是一款高性能电子束曝光(EBL)系统,主要用微纳电子器件图形曝光,它能同时应用多种纳米加工技术,使用包括高精度激光干涉样品台、高速高精度图形发生器、图形识别自动套刻等先进的电子束曝光技术,能够满足超高分辨率和大面积图形的微纳加工要求,可用于亚微米图像的电子束直写,可用于4inch以下样品的图形曝光。