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VHF刻蚀/干法精细释放设备
仪器分类:工艺试验仪器>电子工艺实验设备>半导体集成电路工艺实验设备
浏览量: 发布时间:
所在地:天津
服务承诺:客户至上 如实描述
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  • 仪器信息
    规格型号 :
    RF350
    设备原值 :
    180.0(万元)
    产地国别 :
    美国
    学科领域 :
    电子与通信技术
    技术指标 :
    1、 刻蚀材料:二氧化硅(2000~10000埃)2、 刻蚀厚度:0~1000埃3、 高低功率程序4、低功率参数如下:1)刻蚀容差 ±1.0% 目标值; 2)片内刻蚀厚度均匀性
    主要功能 :
    微机电器件制备与研究
    服务信息
    服务内容 :
    MEMS器件制造
    收费标准 :
    电话沟通商议
    用户须知 :
    工作日
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      庞慰 

        

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