首 页
机构简介
资质荣誉
服务案例
新闻动态
所在位置:
所有产品
>
仪器设备
>
仪器共享
仪器分类:
工艺试验仪器>电子工艺实验设备>半导体集成电路工艺实验设备
享受政策:
浏览量:
发布时间:
所在地:天津
服务承诺:
客户至上 如实描述
产品详情
服务评价
成交记录
仪器信息
规格型号 :
P5000-MARK Ⅱ-J
设备原值 :
72(万元)
产地国别 :
中国
学科领域 :
电子与通信技术
技术指标 :
设备包含至少一个刻蚀腔、一个沉积腔及一个传送腔;刻蚀腔可以用于刻蚀硅晶圆;沉积腔可以用于沉积SiO2;可以刻蚀/沉积4寸晶圆;硅刻蚀速率:10000±500 A/min;
主要功能 :
微机电器件制备与研究
服务信息
服务内容 :
样品测试
收费标准 :
电话沟通商议
用户须知 :
工作日时间
联系我们
庞慰
18222379256
更多推荐