规格型号 :

MBRAUN ProVap

设备原值 :

89（万元）

产地国别 :

中国

学科领域 :

物理学,材料科学

技术指标 :

高真空独立式PVD系统的方形蒸镀腔： 外观尺寸：约1457×897×1851mm（长×宽×高） 内部尺寸：500×500×500mm（宽×长×高），容积：125L 铝合金腔门；手动操作 腔室材质：不锈钢；四周及门板内侧安装有不锈钢衬板，可拆卸清洗 舱门安装观察视窗，直径100mm，带挡板 左侧面安装DN200 ISO-K高真空法兰 最大适用于直径153mm（6"）圆盘或105×105mm（4"×4"）方形衬底 极限真空度：<5x10-7 mbar 2. 蒸镀系统基础控制单元及真空泵模块：包含： 一套高真空测量系统，包含PIRANI及PENNING真空规（测量范围：常压到高真空） 一台前级旋叶泵（2级油泵），抽速18 m3/ h 一台涡轮分子泵，抽速不小于1100l/s（氮气氛围下），包含分子泵控制单元 DN200气动闸板阀一件 3. 244-06型电子束蒸发源： 6kW 功率 底部驱动，6 x 7cc坩埚容量 ST-6型6kW电子束电源，包括新型数字扫频仪 电子束蒸发源底部驱动安装馈入机构，1"或者32mm，包括： 高压馈入机构 x 2，冷却水馈入机构 x 1 扫频线圈馈入机构 x 1

主要功能 :

原理：电子束蒸镀是利用加速电子轰击镀膜材料，电子的动能转换成热能使镀膜材料加热蒸发，并成膜。 功能：可以蒸发难熔金属或化合物，;被蒸发材料置于水冷的坩埚中，可避免坩埚材料的污染，制备高纯薄膜; 用于实现多层厚度在纳米或微米级别的金属材料或陶瓷材料的膜层 具体用途：该设备应用于“单分子的新奇物性及其调控”项目中，用于单分子器件制备的前道工序，利用该设备在基底上镀上一定厚度均匀的膜，再利用其余设备进行刻蚀，最终构筑单分子器件所需电极。

服务内容 :

为用户提供镀膜的必要指导，进行安全以及仪器使用和仪器清洁维护的培训。指导用户进行样品放置，调节位置和实时镀膜厚度监测以及高质量薄膜生长流程，提供薄膜图像显微拍摄仪器的使用方法。在工作时间内为用户分析生长薄膜存在的技术问题。

收费标准 :

院内收费标准：300元/小时 校内收费标准：500元/小时 暂不对校外开放：考虑到电子束镀膜机需要定期清洁真空室,每次都彻底洗干净,以免带来越来越难洗的现象，减少仪器的使用寿命，故不对校外人员开放。

用户须知 :

申请使用设备的用户必须为专业人员，从事与薄膜材料以及物理、化学相关的本科生，硕士研究生，博士研究生，科研助理，实验室管理员，博士后等。