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二氧化硅离子刻蚀仪
仪器分类：工艺试验仪器>电子工艺实验设备>半导体集成电路工艺实验设备
浏览量： 发布时间：
所在地：天津
服务承诺：客户至上 如实描述
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    • 仪器信息
    规格型号 :
    Lam590
    设备原值 :
    73（万元）
    产地国别 :
    美国
    学科领域 :
    电子与通信技术
    技术指标 :
    刻蚀速〉1000A/min 刻蚀均匀性〈5%
    主要功能 :
    微机电器件制备与研究
    服务信息
    服务内容 :
    样品测试
    收费标准 :
    电话沟通商议
    用户须知 :
    工作日时间
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      王超 

        

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