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光刻机
仪器分类:工艺试验仪器>电子工艺实验设备>半导体集成电路工艺实验设备
浏览量: 发布时间:
所在地:天津
服务承诺:客户至上 如实描述
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  • 仪器信息
    规格型号 :
    MJB4
    设备原值 :
    105(万元)
    产地国别 :
    德国
    学科领域 :
    信息科学与系统科学
    技术指标 :
    (1)曝光波长:350-450nm(2) 曝光灯功率:350W(3) 分辨率:优于0.8?m(光刻胶厚度1微米时)(4) 套刻精度:优于0.5?m(5) 曝光光强: 大于40mW/
    主要功能 :
    在光刻胶上曝光处所需的pattern
    服务信息
    服务内容 :
    样品测试
    收费标准 :
    电话沟通商议
    用户须知 :
    工作日部分时间对外开放共享
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      韩家广 

      13820728661 

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