仪器信息
规格型号 :
D100-4882
设备原值 :
29.9（万元）
产地国别 :
中国
学科领域 :
化学工程
技术指标 :
无
主要功能 :
原子层沉积 (Atomic Layer Deposition，ALD)是一种高级薄膜制备技术，已获得科研和工业界的很高评价。ALD相对于传统的沉积工艺而言，沉积层厚度更均匀、阶梯覆盖率和保形性更好、重复性更可靠，其沉积原理是通过将两种反应气体（或者蒸汽）以气体脉冲形式交替地引入反应器，依靠留在基体表面的吸附分子进行反应而生成沉积物。由于每次参与反应的反应物局限于化学吸附于基体表面的分子，这使得ALD具有自限制特征，所制备的薄膜保形性好、纯度高且均匀。
服务信息
服务内容 :
无机薄膜沉积
收费标准 :
化工与材料学院内部100元/个样品；
天津科技大学校内外学院200元/个样品；
天津科技大学校外单位350元/个样品。
用户须知 :
须有低沸点前驱体方可进行ALD沉积
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王松博
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