仪器信息
规格型号 :
JGP-450a
设备原值 :
26.0（万元）
产地国别 :
中国
学科领域 :
材料科学,信息科学与系统科学
技术指标 :
溅射室极限真空度：≤1.5X10-6 Pa (经烘烤除气后)；
进样室极限真空度：≤6.67X10-4 Pa (经烘烤除气后)
主要功能 :
可用于制备纳米量级的Al、Fe、Ti、Cu、Ni等金属膜，纳米量级的SiO2、V2O5、HfO2、NiO、WO3、TiO2等半导体膜
服务信息
服务内容 :
可用于沉积金属薄膜和半导体介质薄膜
收费标准 :
无
用户须知 :
无
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张楷亮
13672198378
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