规格型号 :

MJB4

设备原值 :

91.84（万元）

产地国别 :

德国

学科领域 :

物理学

技术指标 :

1.曝光波长：UV400，350W 2.曝光面积：100 mm（4英寸） 3.曝光时间范围可调 4.曝光模式可支持硬接触、软接触、接近和真空4种模式 5.分辨率：≤0.8 mm 6.正面套刻精度：≤ ±0.5 mm 7.光强均匀度：100mm直径内≤±5％ 8.卡盘： （1）晶圆夹具1：适用于10mm-20mm不规则小片； （2）晶圆夹具2：适用于4英寸标准硅片； （3）掩模版夹具1：适用于3-5寸版，曝光区域：2英寸； （4）掩模版夹具2：适用于5寸版，曝光区域：4英寸。9.掩膜版尺寸：2“ x 2“ 到 5“ x 5“ 10.掩模相对于样片运动行程的范围大于或等于：X：±5 mm；Y：±5 mm；θ：5o 11.显微镜： SUSS高分辨率全视野显微镜与亮场入射照明SUSS掩模对准器MJB4 精细对焦，射程可达300光圈； 可调光圈，显微镜照明50 W 目镜5X/0.15：工作距离20 mm；目镜10X/0.30：工作距离10.1 mm; 目镜20X/0.40：工作距离12 mm

主要功能 :

光刻机是微电子器件及集成光电,子器件关键的工艺设备,研究人员通过光刻工艺将已设计好的各种细微图形显像到芯片的光刻胶上,在经过其它半导体工艺如刻蚀、扩散等,最终在芯片表面形成需要的图形结构,这样经过几次甚至几十次反复的光刻及其它工艺,才能形成具有特殊功能的微电子、光电子器件。

服务内容 :

少量样品，不支持自测，仅支持送样，无需培训；大量样品/多次(10个/次以上)，且有使用经验者，支持自测，需要通过组织的培训；需要预约，单次1小时起预约，最大4小时。 服务内容包含：1、光刻；2、显影

收费标准 :

院内收费标准 200元/小时 校内收费标准 300元/小时 校外收费标准 400元/小时

用户须知 :

1.用户申请条件：申请人需为南开大学在校师生或与学校有正式合作关系的研究人员。申请人需具备一定的光刻技术知识和操作经验，或接受过相关培训。 2.申请方式：申请人需通过南开大学大型仪器设备管理平台在线提交申请。 3.申请时间：建议提前至少一周提交申请，以便安排设备使用时间 4.申请流程：在线填写申请表，包括实验目的、所需设备型号、预计使用时间等信息。 5. 申请材料：个人或团队的基本信息。实验方案和预期目标。光刻机操作培训证书或相关证明。 6. 服务时间安排：光刻机的使用时间将根据申请的先后顺序和实验需求进行合理分配。设备管理部门将尽量满足申请人的时间需求，但需遵守设备维护和校方安排。 7. 注意事项：申请人需遵守实验室规章制度，爱护设备，确保操作安全。使用过程中遇到问题应及时与设备管理人员联系。