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化学机械抛光
仪器分类:工艺试验仪器>电子工艺实验设备>半导体集成电路工艺实验设备
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所在地:天津
服务承诺:客户至上 如实描述
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  • 仪器信息
    规格型号 :
    1 抛光盘直径≥400 mm;2 抛光头最大转速≥100转/分钟;3 具有往复式修整装置,金刚石修整环直径≥120 mm。
    设备原值 :
    96(万元)
    产地国别 :
    韩国
    学科领域 :
    电子与通信技术
    技术指标 :
    1 抛光盘直径≥400 mm;2 抛光头最大转速≥100转/分钟;3 具有往复式修整装置,金刚石修整环直径≥120 mm。
    主要功能 :
    材料的表面抛光
    服务信息
    服务内容 :
    样品加工
    收费标准 :
    电话沟通商议
    用户须知 :
    工作日
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      张林 

        

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