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双光子灰度对准光刻机
仪器分类:工艺试验仪器>电子工艺实验设备>半导体集成电路工艺实验设备
浏览量: 发布时间:
所在地:天津
服务承诺:客户至上 如实描述
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  • 成交记录
  • 仪器信息
    规格型号 :
    Quantum X align
    设备原值 :
    689.0(万元)
    产地国别 :
    德国
    学科领域 :
    电子与通信技术
    技术指标 :
    型号:QuantumXalign三维对准精度:100nm(xy)/500nm(z)可加工加工表面粗糙度Ra≤10nm形状精度Sa≤200nm(ISO25178)细节尺度:100nm可实现的耦合损耗≤1
    主要功能 :
    双光子灰度光刻
    服务信息
    服务内容 :
    双光子灰度光刻
    收费标准 :
    电话沟通商议
    用户须知 :
    工作日
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