仪器信息
规格型号 :
牛津仪器 PlasmaPro NGP80 RIE
设备原值 :
121（万元）
产地国别 :
英国
学科领域 :
材料科学,信息科学与系统科学
技术指标 :
反应气体：O2, Ar, CF4，CHF3，SF6
RF最大功率：300W
电极尺寸：240mm
刻蚀材料：硅基材料
最大晶片尺寸：4英寸
主要功能 :
半导体材料反应离子刻蚀设备，可用于从小块样品到直径200mm的晶片刻蚀，开放式进样设计使晶片可以快速进片及退片
服务信息
服务内容 :
可用于从小块样品到直径200mm的晶片刻蚀
收费标准 :
无
用户须知 :
无
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张楷亮
13672198378
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