仪器信息
规格型号 :
Microlab III
设备原值 :
85（万元）
产地国别 :
中国
学科领域 :
材料科学
技术指标 :
1. 最小结构尺寸0.5 μm，具有3个不同分辨率(10X，20X，50X)物镜镜头；
2. 支持基底厚度1-15 mm， 支持Z轴AutoFocus 基底翘曲100 μm；
3. 支持扫描曝光，灰度曝光，拖曳曝光多种曝光模式
4. 套刻精度：小于500 nm
5. 支持基片5 mm×5 mm-150 mm×150 mm任意尺寸
主要功能 :
1. 无需掩模版，用户利用计算机生成数字图形模板，直接通过DMD和经过精缩物镜投影到基底上进行图形作业
2. 可制作各种亚微米级器件的微结构
3. 支持正胶和负胶
4. 支持扫描曝光，灰度曝光，拖曳曝光等多种曝光模式
服务信息
服务内容 :
GDS切图、正胶和负胶多种曝光模式激光直写
收费标准 :
VIP课题组10元/小时；部门课题组30元/小时；学院内课题组150元/小时；校内课题组200元/小时；校外300元/小时
用户须知 :
1.服务时间：每周二、每周四，8：00——18：00（节假日除外）；2.校内课题组、校外课题组/用户送样自测。如由操作员代为操作，需要额外收取150元/小时的操作费用。
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吴金雄
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