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高速霍尔离子源系统
仪器分类:工艺试验仪器>其他>其他
浏览量: 发布时间:
所在地:天津
服务承诺:客户至上 如实描述
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  • 仪器信息
    规格型号 :
    P:15kW,U:1000V,Σ:30A;GX150/1000
    设备原值 :
    51.98(万元)
    产地国别 :
    中国
    学科领域 :
    机械工程
    技术指标 :
    迁移率范围:1-106 cm²/Vs;电阻率范围:10⁻⁵-10⁵ Ohm·cm;电阻范围:0.5 mOhm-10 MOhm
    主要功能 :
    ‌离子束加速和引出‌:霍尔离子源通过电磁场的作用,能够将气体分子电离成离子,并通过交叉电磁场形成霍尔环流,从而无需栅极即可实现离子的加速和引出。大面积均匀镀膜‌:高速霍尔离子源系统能够产生大面积且均匀分布的离子束,确保镀膜过程中的均匀性和一致性。预清洗和表面处理‌:在真空镀膜过程中,高速霍尔离子源系统可以用于基底离子轰击清洁,改善膜层的致密度和稳定性。
    服务信息
    服务内容 :
    提升镀膜时粒子的离化率,提升镀膜质量。
    收费标准 :
    无
    用户须知 :
    无
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      范其香 

        

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