首 页
机构简介
资质荣誉
服务案例
新闻动态
所在位置:
所有产品
>
仪器设备
>
仪器共享
仪器分类:
工艺试验仪器>电子工艺实验设备>半导体集成电路工艺实验设备
享受政策:
浏览量:
发布时间:
所在地:天津
服务承诺:
客户至上 如实描述
产品详情
服务评价
成交记录
仪器信息
规格型号 :
Primaxx uEtch
设备原值 :
161.58(万元)
产地国别 :
美国
学科领域 :
电子与通信技术
技术指标 :
1.热氧化二氧化硅刻蚀速率大于0.2um/min,未退火TEOS二氧化硅可达1um/min;2.氧化硅刻蚀速率片内不均匀性<5%,片与片之间的不均匀性<5%;3.氧化硅对氮化硅选择比大于20:1(
主要功能 :
气态刻蚀二氧化硅
服务信息
服务内容 :
气态刻蚀二氧化硅
收费标准 :
电话沟通商议
用户须知 :
工作日
联系我们
庞慰
更多推荐