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干法精细释放设备
仪器分类:工艺试验仪器>电子工艺实验设备>半导体集成电路工艺实验设备
浏览量: 发布时间:
所在地:天津
服务承诺:客户至上 如实描述
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  • 仪器信息
    规格型号 :
    Primaxx uEtch
    设备原值 :
    161.58(万元)
    产地国别 :
    美国
    学科领域 :
    电子与通信技术
    技术指标 :
    1.热氧化二氧化硅刻蚀速率大于0.2um/min,未退火TEOS二氧化硅可达1um/min;2.氧化硅刻蚀速率片内不均匀性<5%,片与片之间的不均匀性<5%;3.氧化硅对氮化硅选择比大于20:1(
    主要功能 :
    气态刻蚀二氧化硅
    服务信息
    服务内容 :
    气态刻蚀二氧化硅
    收费标准 :
    电话沟通商议
    用户须知 :
    工作日
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      庞慰 

        

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