仪器信息
规格型号 :
JCP500
设备原值 :
28.0（万元）
产地国别 :
中国
学科领域 :
材料科学
技术指标 :
真空腔室Ф500×H420mm，304优质不锈钢制造，前开门结构
真空系统 复合分子泵+直联旋片泵+高真空阀门组合的高真空系统，数显复合真空计
真空极限 6.0×10-5Pa（空载，经烘烤除气后）
漏率 设备升压率≤0.8Pa/h
设备保压：停泵12小时候后，真空≤10Pa
抽速 （空载）从大气抽至5.0×10-3Pa≤15min
基片台尺寸 Φ150mm范围内可装卡各种规格基片
基片台旋转与加热 基片旋转：0～20转/分钟
主要功能 :
1、优良高真空系统配置，可实现稳定的高真空镀膜环境，更好的极限真空度，更快的抽速，有利于提高镀膜效率，缩短实验时间。
2、可用于制备纳米金属膜、合金膜、半导体膜、陶瓷膜、介质膜等，开发纳米级单层、多层及复合膜层等。
3、基片台和靶溅射面积更大，三套溅射靶可单独溅射、依次溅射、共同溅射，可适用多种和多层材料溅射；溅射靶的稳定性和成膜均匀性佳，可有效提高靶材利用率高，尤其是贵金属靶材。
4、PLC半自动控制系统，操作简便，在方便的前提下可最大限度调动实际使用者的研发能力。
服务信息
服务内容 :
材料科学领域分析测试
收费标准 :
请与仪器负责人联系
用户须知 :
按照《南开大学大型仪器设备管理办法》执行
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孙小磊
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