仪器信息
规格型号 :
Ministar-3C
设备原值 :
108.0（万元）
产地国别 :
韩国
学科领域 :
电子与通信技术
技术指标 :
？ 成膜材料：二氧化硅，氮化硅？ 厚度范围：0~20000埃？ 片内刻蚀厚度均匀性：1_Sigma ≤ 5%, ？ 片间刻蚀厚度均匀性：1_Sigma ≤ 5 %, ？ 刻蚀材料：二氧化硅，氮
主要功能 :
SiO2沉积
服务信息
服务内容 :
样品测试
收费标准 :
电话沟通商议
用户须知 :
工作日
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庞慰
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