详细信息：
成果简介：利用磁控溅射技术已经开发了超薄（可低至5nm）AlN及AlON薄膜的制备方法，薄膜厚度可控（精度在0.1nm）。该系列薄膜具有高强度，高透明度，耐腐蚀等特征，并且可在反光基体上通过调控薄膜厚度实现宽光谱显色功能。
成果核心创新点：1.超薄AlN及AlON薄膜制备；2.厚度可控，精度0.1nm；3.高强度，高透明度，耐腐蚀；4.可实现宽光谱显色功能。
成果详细用途：用于材料表面防护和装饰，如玻璃、首饰、外壳等。适用于多个工业领域。
预期效益说明：透明防护薄膜应用广泛，该技术性能优异，预计在多个市场有应用前景，经济效益显著。
成果简介：利用磁控溅射技术已经开发了超薄（可低至5nm）AlN及AlON薄膜的制备方法，薄膜厚度可控（精度在0.1nm）。该系列薄膜具有高强度，高透明度，耐腐蚀等特征，并且可在反光基体上通过调控薄膜厚度实现宽光谱显色功能。
成果核心创新点：1.超薄AlN及AlON薄膜制备；2.厚度可控，精度0.1nm；3.高强度，高透明度，耐腐蚀；4.可实现宽光谱显色功能。
成果详细用途：用于材料表面防护和装饰，如玻璃、首饰、外壳等。适用于多个工业领域。
预期效益说明：透明防护薄膜应用广泛，该技术性能优异，预计在多个市场有应用前景，经济效益显著。
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罗伟
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