规格型号 :

FS450-S6

设备原值 :

116.0（万元）

产地国别 :

中国

学科领域 :

物理学,材料科学

技术指标 :

FS450-S6型电子束热蒸发镀膜仪由苏州方昇光电股份有限公司提供，适用于半导体、光电子、材料科学等领域中高纯薄膜的制备。设备配备高稳定性电子束蒸发源，支持多靶材切换，靶材数量最多可达6个，具备自动换靶功能。采用高真空腔体设计，极限真空优于5×10⁻⁶ Pa，搭配分子泵与机械泵组合抽气系统，抽速快、运行稳定。电子枪功率最高可达6 kW，蒸发速率可调，适用于多种金属（如Au、Ag、Al、Cu等）及氧化物薄膜的沉积。样品台具备旋转与加热功能，加热温度最高可达500℃，确保膜层均匀性与附着力。配备晶体厚度监控系统，实现实时厚度与速率控制。操作界面友好，具备自动控制与保护功能，可实现精准、稳定的薄膜沉积过程。

主要功能 :

该仪器用于在高真空环境下，通过电子束加热蒸发靶材，实现高纯金属及氧化物薄膜的沉积。支持多靶切换，可连续沉积多层膜。广泛应用于半导体器件、光学膜系、纳米材料等研究领域，是实验室薄膜制备与材料表面调控的核心设备。

服务内容 :

提供各类金属及氧化物薄膜的热蒸发镀膜服务，包括单层膜、多层膜、掺杂膜的制备。支持多靶切换，可按需定制膜厚、膜层结构与沉积速率。可用于制备导电膜、反射膜、电极层、功能性薄膜等，适用于基础研究及器件前驱工艺开发。

收费标准 :

本测试费用： 单层膜沉积（普通金属或氧化物）：约300–500元/次 多层膜沉积：约500–800元/次 薄膜厚度监控：约100–200元/次 附加费用： 特殊靶材（如贵金属、稀有材料）：约800–1200元/次 样品加热/冷却（控制温度）：约300–500元/次 备注：价格依据膜层复杂度和所用材料的不同而调整，具体费用需根据项目详细要求协商。

用户须知 :

样品要求：样品应具有平整表面，适应真空环境。非导电样品需特殊处理。 操作要求：用户需提供靶材信息及膜层需求，如膜厚、沉积速率等。 安全提示：镀膜过程中涉及高真空和高电压操作，使用前需确保设备状态正常，操作人员需进行安全培训。