仪器信息
规格型号 :
Mars 4410定制版
设备原值 :
297.0（万元）
产地国别 :
中国
学科领域 :
材料科学,电子与通信技术,工程与技术科学基础学科
技术指标 :
设备可以检测第二，三代化合物半导体晶圆缺陷，包括不限于氧化镓，氮化镓，碳化硅晶圆的表面缺陷与晶格缺陷，能够实现自动检测并分类统计。可检测缺陷种类包括但不限于：凹坑，凸起，微管，划痕，胡萝卜，污点，裂痕，掉落物缺陷，三角形缺陷，层错，位错，颗粒物（直径≥0.1 μm，使用硅聚苯乙烯乳胶 PSL 标准晶圆）等晶圆缺陷。
主要功能 :
本设备采用多通道激光散射与明暗场复合成像技术，可对晶圆表面及近表面缺陷进行高灵敏度检测与自动分类。配备高稳定性405nm激光光源与五轴精密扫描机构，支持明场，暗场，相移，反射多模式同步成像，实现对微粒，划伤，凹坑，微管，层错，位错，水渍，残留等多种缺陷类型的精准识别。
服务信息
服务内容 :
晶圆缺陷自动检测并分类统计。
收费标准 :
按机时计费：800/h
用户须知 :
蚀性，避免损伤光学检测平台与运动机构。
操作资格：设备操作仅限授权人员，必须严格遵守安全规范，佩戴防护用品，严禁带电作业与违规操作。
检测操作：开机后需按流程完成系统自检与光路校准，禁止强行中断扫描程序；检测过程中出现报警需立即停机并上报。
测试后维护：测试结束后及时清理样品台，清洁光学窗口，配合设备点检与日常维护，保持现场整洁。
责任说明：因违规操作导致设备损坏或样品检测失败，由用户承担相应责任与维修费用。
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