仪器信息
规格型号 :
CKJ-450
设备原值 :
99.0（万元）
产地国别 :
中国
学科领域 :
物理学,材料科学,能源科学技术
技术指标 :
1，可实现全自动控制镀膜，整个系统使用触摸屏和PLC全自动控制；
2，利用机械泵和分子泵级连，可以实现镀膜室的极限真空度为：≤6*10-6Pa；
3，膜厚均匀性：保证单次镀膜均匀性优于2%；
4，3靶位：2直流+1射频；
主要功能 :
多靶位超高真空磁控溅射仪的核心功能是在基片上沉积制备薄膜。设备利用辉光放电产生的等离子体，轰击靶材表面，使靶材原子溅出并沉积在基片上，形成纳米级至微米级的薄膜。该设备具备精确可控的工艺调节能力。通过调整溅射功率，工作气压，基片温度等参数，可有效控制薄膜的厚度，均匀性，晶格结构等。此外，借助多靶位设计，设备可实现复杂的薄膜结构。广泛应用于材料科学，半导体及光学器件等领域。
服务信息
服务内容 :
本平台磁控溅射仪支持直流（DC）溅射金属（如Au，Ag，Ti，Cu等）及射频（RF）溅射介质（如SiO₂，Al2O₃等）。可实现纳米级单层及多层膜沉积，是开展微纳器件，光学元件及表面工程等领域研发的理想工具。
收费标准 :
200元/小时
用户须知 :
1. 预约流程：用户需提前一周预约，遵守操作流程，确保设备在预约时间内可用。
2. 使用时间：设备开放时间为周一至周五9:00-17:00。
3. 操作要求：设备需由机组人员操作。
4. 材料提供：靶材需自备，且尺寸符合要求（60mm)。
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吴以治
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