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HVPE沉积机台
仪器分类:工艺试验仪器>电子工艺实验设备>半导体集成电路工艺实验设备
浏览量: 发布时间:
所在地:天津
服务承诺:客户至上 如实描述
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  • 仪器信息
    规格型号 :
    HVPE-180
    设备原值 :
    196.0(万元)
    产地国别 :
    中国
    学科领域 :
    材料科学,电子与通信技术,工程与技术科学基础学科
    技术指标 :
    设备为水平式开合炉体,极限真空度<10Pa,压升率≤20Pa/8h,可生长 2 英寸,4 英寸外延片,组件包括工艺管,内衬管,镓舟,气体喷头与衬底托,衬底托有旋转和移动自动控制功能,镓舟内部设计有多层或多圈结构,工作温度 100℃~1200℃,六温区,温控精度≤±0.2℃,室温到 1100℃升温时间≤80min。
    主要功能 :
    采用电阻加热与PID精准控温,支持温度曲线编程;配备真空系统与自研压力控制阀,可分级抽真空保护石英腔。气路精确控制 N₂,O₂,HCl等工艺气体,衬底可水平移动与自动旋转。上位机支持工艺编辑,运行,暂停,跳步,实时监控温度,流量,压力,提供超温,气体偏差,泄漏,缺水等多级报警。自动记录历史数据,报警与操作日志,支持导出
    服务信息
    服务内容 :
    外延服务:按分析测试需求,在衬底上完成 HVPE 外延薄膜沉积,提供符合测试规格的样品。
    收费标准 :
    按机时计费:500/h
    用户须知 :
    预约前需提交样品信息,工艺参数与测试目标,确认工艺可行性后预约上机,严禁擅自更改设备参数。 样品需符合4英寸以内尺寸要求,无污染物,无腐蚀性,避免损伤石英腔与气路系统。 操作仅限授权人员进行,必须遵守安全规范,佩戴防护用品,严禁带电作业与违规开合炉体。 工艺过程需按流程先小抽再主抽,禁止高抽速冲击石英腔;出现报警立即停机并上报。 工艺结束后清理腔室,更换老化密封圈,配合设备点检与维护,保持现场整洁。 因违规操作导致设备损坏,样品报废,由用户承担相应责任与维修费用。
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