仪器信息
规格型号 :
URE-2000,
设备原值 :
150（万元）
产地国别 :
中国
学科领域 :
电子与通信技术,纺织科学技术
技术指标 :
可制图案最小线宽为1μm，曝光面积100mm*100mm，对准精度±0.8μm，可使用2.5、3、4、5inch的掩膜版，样片尺寸在φ15mm~φ100mm，样片厚度0.1mm~6mm
主要功能 :
主要目的在于将事先在掩膜版上制成的图案经涂胶、曝光、显影、剥离等步骤转印到包括柔性基底和硅片在内的常见基底材料表面。其具有单刻、套刻、纳米压印三种工艺，支持光学显微镜实时观察掩膜版图案和光刻效果，支持多种尺寸的掩膜版和多种倍数的显微镜镜头观测，可以实现不同型号光刻胶、不同光照强度和时长、不同尺寸图案掩膜版、不同打印基底的制备需求，例如在柔性基底上光刻图案制作传感器电极，以及在硅板上刻蚀图案等。
服务信息
服务内容 :
科研样品制作
收费标准 :
在自备基底、光刻胶、掩膜版等材料情况下80/件或400/h
使用本组材料：PET：20/A4大小一张
以3英寸掩膜版为例，负性光刻胶160元/件，代制掩膜版1200元/版（来图代购），画图且代制掩膜版2000/版
用户须知 :
操作步骤为1.点亮汞灯；2.开启控制电压；3.上掩膜、上片；4.曝光、对准；5.关机
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刘皓
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