规格型号 :

CTA-3S

设备原值 :

54.9（万元）

产地国别 :

中国

学科领域 :

纺织科学技术,材料科学

技术指标 :

1. 真空腔室 1.1结构：采用立式、方形结构，前门为水平滑开式，材质为锻铝，可位于手套箱体内部；通过门框法兰与手套箱密封对接；后门带锁紧装置，在充气条件下保持腔室密闭与大气环境隔离；前开门便于蒸发材料和样片在保护环境下装卸，后开门便于真空室的清理维护； 1.2主要接口分布位置，可拆卸蒸发源及挡板接口位于腔室底部； 基片台接口、基片台挡板接口、电磁放气阀接口、预留基片台加热器组件接口、预 留膜厚仪接口等从腔室顶部引入；DN200mm抽气管道接口位于腔室左侧； 1.4预留接口：装膜厚仪以及其它用途； 2.水冷基片台 2.1基片台：抽屉式结构，基片台尺寸220×220mm，可镀样品尺寸≤210×210mm且此范围内厚度偏差 ≤±2%；可从基片架组件中取出，方便用户安装基片； 2.2配备通用夹具，方便用户装卡各种不同规格尺寸的基片； 2.3基片台电机驱动：旋转转速 0～20 转/分钟，连续可调；主轴磁流体密封； 2.4基片台电动升降：升降范围 70mm，可有效提高贵重材料利用率及膜厚；

主要功能 :

配置 3组金属蒸发源和 3 组有机蒸发源，组合配置灵活，根据不同配置，可实现单层蒸镀、多源共蒸、分层镀膜等功能。

服务内容 :

用于制备 Al、Cu、Bi2Te3及塑料等一些金属、半导体及有机薄膜的制备，以及一些热电、光电等传感器的加工。

收费标准 :

100元/时

用户须知 :

样品尺寸范围1*1mm至150*150mm，具体可制备的材料类型需与管理员提前沟通。