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反应离子刻蚀机
仪器分类:工艺试验仪器>电子工艺实验设备>半导体集成电路工艺实验设备
浏览量: 发布时间:
所在地:天津
服务承诺:客户至上 如实描述
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  • 仪器信息
    规格型号 :
    Phantom LT
    设备原值 :
    193.2(万元)
    产地国别 :
    中国
    学科领域 :
    电子与通信技术,材料科学
    技术指标 :
    搭载集成光学参量放大器的全固态一体化激光系统,最大功率 10W,最大输入功率 40W,中心波长 1020-1040nm,拓展输出波长 320-505/525-640/640-1010/1050-2600nm;重复频率 1~200kHz 可调,脉宽 120-250fs,软件调谐 290fs-10ps,最大脉冲能量 200uJ,光束质量 TEM00,M2<1.2。稳定环境下 24h 输出脉冲稳定性 < 0.5%,100h 功率稳定性 < 0.5%;800nm 下 8h 功率稳定性 < 1%,1min 脉冲能量稳定性 < 1%,激光性能精准可控。
    主要功能 :
    利用等离子体实现半导体,绝缘体等材料的高精度刻蚀,激光参数可灵活调控,刻蚀精度高,均匀性好,适用于微纳器件(MEMS,集成电路),微纳结构的制备与加工,满足微电子,微纳制造领域研发需求。
    服务信息
    服务内容 :
    半导体 / 绝缘体材料刻蚀,微纳结构加工,MEMS 器件制备
    收费标准 :
    基础刻蚀:2000/小时 特殊工艺:4000/小时
    用户须知 :
    1. 操作人员需经严格培训并考核合格; 2. 实验过程需全程监控,严禁无人值守。
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      杨帆 

        

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